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蒸餾水、去離子水、高純水和超純水是實驗室和工業中常見的純水類型,主要區別在于純度等級、制備方法及應用場景。以下是環揚未來對此進行的詳細對比:
制備方法:通過蒸餾(加熱蒸發后冷凝)去除雜質。
純度特點:
去除大部分無機離子、微生物和部分有機物。
純度較低,可能殘留揮發性物質(如氯仿、二氧化碳)。
關鍵指標:
電導率:通常>1 μS/cm(電阻率<1 MΩ·cm)。
微生物含量:較高(需滅菌后使用)。
應用場景:基礎化學實驗、玻璃器皿清洗、普通分析。
制備方法:通過離子交換樹脂吸附水中的陰陽離子。
純度特點:
高效去除無機離子(如Ca2?、Mg2?、Cl?),但可能殘留有機物和微生物。
電導率較低,但長期儲存易吸收CO?導致純度下降。
關鍵指標:
電導率:0.1~1 μS/cm(電阻率1~10 MΩ·cm)。
TOC(總有機碳):未嚴格控制。
應用場景:配制溶液、儀器沖洗、工業清洗。
制備方法:結合反滲透(RO)、去離子化和紫外殺菌等多級處理。
純度特點:
嚴格控制無機離子、有機物和微生物。
電導率更低,適用于多數分析儀器。
關鍵指標:
電導率:<0.1 μS/cm(電阻率>10 MΩ·cm)。
TOC:<50 ppb,微生物含量<1 CFU/mL。
應用場景:HPLC(高效液相色譜)、光譜分析、細胞培養。
制備方法:在高純水基礎上,增加脫氣、拋光混床、循環過濾等步驟。
純度特點:
幾乎除離子、有機物、顆粒和溶解氣體。
電導率接近理論極限(18.2 MΩ·cm),適用于痕量分析。
關鍵指標:
電導率:<0.055 μS/cm(電阻率>18.2 MΩ·cm)。
TOC:<10 ppb,微生物含量<0.1 CFU/mL。
硅含量:<0.01 mg/L。
應用場景:半導體制造、痕量金屬分析、基因測序、納米材料研究。
類型 | 制備方法 | 電導率(μS/cm) | 電阻率(MΩ·cm) | TOC(ppb) | 應用場景 |
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蒸餾水 | 蒸餾 | >1 | <1 | 未控制 | 基礎實驗、清洗 |
去離子水 | 離子交換樹脂 | 0.1~1 | 1~10 | 未控制 | 配制溶液、工業清洗 |
高純水 | RO+去離子化+UV | <0.1 | >10 | <50 | 分析儀器、細胞培養 |
超純水 | 多級處理(含脫氣、拋光) | <0.055 | >18.2 | <10 | 半導體、痕量分析、納米技術 |
純度等級:
超純水>高純水>去離子水>蒸餾水。
制備成本:
超純水制備系統最復雜,成本最高。
儲存要求:
高純水和超純水需密閉儲存,避免吸收空氣中的CO?和顆粒物。
術語差異:
某些領域可能將“高純水"與“超純水"混用,但嚴格來說超純水純度更高。
根據實驗需求選擇合適的水質,可避免雜質干擾,確保結果準確性。